1. 中国为何没有光刻机
光刻机中国能制造，但是精度不如国外。 中国科学院成都光机所和四十五所，能制造接近接触式光刻机。 上海微电子装备有限公司能够制造投影式光刻机。在LED、IC后道和平板显示的微米级光刻机都有不少销量。IC前道光刻机分辨力要求较高，目前只能制造百纳米或几十纳米级别光刻机，而国外已经推出13纳米的光刻机了。 核心技术包括投影物镜、精密运动台和精密测量系统等。对于最先进的光刻机，关键的镜片、传感器和电机等依靠进口。
2. 中国还没有光刻机吗
目前，国内最为顶尖的光刻机制造商是上海微电子，该公司主营业务就是光刻机的开发、设计和制造。目前该公司生产的光刻机产品中，最先进的制程精度为28纳米级别。预计将会在2021年进行交付，但即便是上海微电子设计的国产光刻机，依旧需要对外界采购零部件。据悉，该公司预计将会在2021年下半年推出新的光刻机，用于提升28纳米芯片的产能。但在该光刻机的零部件中，依旧使用了大量来自日本公司提供的零件。
3. 中国为何没有光刻机技术
技术不过关，科技人员没有
4. 中国没光刻机吗
没有自主。
国产7nm的光刻机还没有研制成功的，能够制造7纳米芯片的光刻机就是极紫外光刻机，目前能够制造极紫外光刻机的只有一家，就是荷兰的阿斯麦公司，而且阿斯麦公司也只是一个组装公司，极紫外光刻机是一个庞大的工程，它的零件都是全球最顶尖的科技，比如美国的光源，德国的镜头，法国机械臂，英国的电动马达，都是要求非常精密的，难度很大，所以我国还没研制出来。
5. 为什么中国没有自己的光刻机
能够研发的，首先要相信自己的国家，自力更生，艰苦奋斗，从无到有，不让欧美西方国家卡脖子虽然光刻机的自主研发之路很困难，但是中国还是取得了很大成就的。2016年，上海微电就成功研发了90nm光刻机。2018年，中科院的超分辨光刻机设备研发成功，目前结合独特的双重曝光技术已经可以自主研发10nm芯片了。虽然10nm的芯片和目前世界上顶尖的芯片还有一段距离，但这总归是一个好的开始。