1. 光刻机原理图示
光刻是集成电路最重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。光刻是制造芯片的最关键技术，在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。
光刻机的工作原理： 利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。
这就是光刻的作用，类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是电路图和其他电子元件。
2. 光刻机原理图示讲解
光刻机的作用是蚀刻芯片的功能及线路，当然也包括了制造处理器这样的大规模集成电路或者内存颗粒、闪存颗粒等等。--光刻机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。可以分为两种，分别是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴芯片；以及利用类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样
3. 光刻机原理图示图
用深紫外光刻技术制造的芯片使用的是248纳米的光，也有一些制造商使用193纳米光。有了极紫外光刻技术，芯片将用13纳米的光制造。基于波长越小成像效果越好的定律，13纳米光将提高投射到硅片上的图案质量，从而提高芯片的速度。
但整个过程必须在真空中进行，因为这些光的波长很短，连空气都会吸收它们。此外，EUVL使用了涂有多层钼和硅的凹面和凸面镜，这种涂层可以在13.4纳米的波长下反射近70%的EUV光。如果没有涂层，光线在到达晶圆片之前就会被完全吸收。镜子的表面必须近乎完美，即使是涂层上的微小缺陷也会破坏光学器件的形状，扭曲印刷电路的图形，从而导致芯片功能上的问题。
4. 光刻机基本原理
如果单纯从原理的角度来出发，其实光刻机并不复杂。
光刻机，顾名思义，是通过能量光源进行雕刻的一种设备。能了光源比如激光等，目前主要用在芯片的加工生产上。
它需要在极小的空间内完成极为精细的纳米级雕刻。为具备这项能力。需要掌握的核心技术有很多，主要有以下几种。
激光的选用和制备。
激光透镜模组的设计与制作。
高精度晶振电机的制作与设计。
激光能量值和运动路线的控制。
加工空间的净化。
配套的控制程序及硬件。
5. 光刻机工作原理示意图
光刻机的工作原理是要经过硅片表面清洗、烘干、旋涂光刻胶、干燥、对准曝光、去胶、清洗、转移等众多工序完成的。经过一次光刻的芯片还可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片，线路图的层数就越多，而且也需要更精密的曝光控制过程。
光刻机一般是用在激光上，下面以在玻璃上刻蚀图形为基础，介绍光刻机的工作原理：
1、清洗玻璃并烘干，首先准备一块玻璃，玻璃的大小可以根据需要裁减，然后将玻璃清洗干净烘干，备用。
2、在玻璃上涂覆光刻胶，光刻胶有正性和负性之分。
3、干燥，采用固化干燥机让玻璃挥发液体成分，干燥的目的是为了玻璃进一步加工的需要。
4、曝光，曝光的方式有很多种，比如激光直写、通过掩模板同时曝光等都可以。
5、去胶，去胶的方法也很多，比如放在刻蚀剂中，用正性胶的话，被光照到的地方就会被溶解，没有光照到的地方光刻胶保留下来，到这里就已经在光刻胶上刻蚀出了所需图形。
6、清洗，去胶结束后，对玻璃进行清洗。
7、转移，转移的方法也有很多，可以采取离子束轰击，光刻胶和玻璃同时被轰击等等，光刻胶被轰击完后，暴露出来的玻璃也被轰击，就把光刻胶上的图形转移到玻璃上。这样就完成了。
6. 光刻机的结构及光刻原理
光刻机是半导体技术。光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备， 技术含量、价值含量极高。 光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备。在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的最关键技术，他占芯片制造成本的35%以上。