1. 国产极紫外光刻机验证单位
高通的芯片不能说全部都用荷兰阿斯麦制造的光刻机进行生产，但是制程较低的高端芯片都只能采用荷兰阿斯麦制造的极紫外光刻机进行生产，目前在这个领域，商品化的极紫外光刻机只有阿斯麦可以生产。这里相关的芯片包括：7nm和5nm及以下的芯片。这里有我们熟知的：骁龙778，骁龙878，骁龙878等。
2. 中国极紫外光刻机
中国是有阿斯麦尔光刻机的，很多中国半导体公司就购买了阿斯麦尔的光刻机，比如中芯国际就买了很多阿斯麦尔的光刻机，但是由于美国对于中国的制裁，最先进的极紫外光刻机是不让卖给中国的，所以中国只能获得比较先进的光刻机，而最先进的就不容易获得
3. 中科院极紫外光刻机
没有自主。
国产7nm的光刻机还没有研制成功的，能够制造7纳米芯片的光刻机就是极紫外光刻机，目前能够制造极紫外光刻机的只有一家，就是荷兰的阿斯麦公司，而且阿斯麦公司也只是一个组装公司，极紫外光刻机是一个庞大的工程，它的零件都是全球最顶尖的科技，比如美国的光源，德国的镜头，法国机械臂，英国的电动马达，都是要求非常精密的，难度很大，所以我国还没研制出来。
4. 中国极紫外线光刻机
需要多久目前未知。
首先要知道目前全球还没有3nm光刻机，所谓3nm是指芯片的制程，而光刻机目前最高就是13.5纳米极紫外光光源波长euv光刻机。国产光刻机目前只能做到28纳米的duv深紫外光光源光刻机，而想要突破到euv这个等级的光刻机要多久还未可知。
5. 极紫外光刻机技术
十年。
一台光刻机的寿命也不仅仅在于一两代芯片，如果用193nm深紫外光刻机也是可以做到10nm乃至7nm芯片的生产的，只是工艺难度实现起来相对复杂，成本较高，比如采用自对准四次成型技术，就可以得到更加致密的结构，不过因为芯片层级的工艺变得复杂，需要更多掩模版和材料，所以用193nm光刻机生产7nm芯片非常不划算，所以到了这个程度必须上EUV光刻机。
6. 极紫外光刻机光源
是用极紫外激光在线路板上刻出线路。
7. 国产90nm光刻机验收交付
中国有自己的光刻机，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径。
虽然ASML光刻机技术先进，但荷兰并不是一国之力就能制造的。 其中，光学仪器来自美国，透镜组件来自德国蔡司，另外5万个零件也依赖海外进口。
虽然中国已经突破了22纳米光刻机的技术，但与荷兰ASML公司的5纳米水平仍然有很大差距。 但是，技术总是从无到有，从有到优的过程，就像万事难以开始一样。 现在，国产光刻机已经有了良好的开端，相信不会让国民失望。 同时，中国在科技领域创造的奇迹已经不少了。
在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，使光束透过绘有电路图的掩模，用物镜补偿各种光学误差，将电路图按比例缩小映射到硅片上，用化学方法显影，刻在硅片上的电路图