1. 第一代光刻机
1.双工件台华卓精科自2012年成立，用了10年的时间，在双工件台技术方面，取得了重大突破。2016年，华卓精科与清华大学共同研制出两套光刻机双工件台掩膜台系统α样机，并成功通过验收。2020年4月，华卓精科向上海微电子发货首台DWS双工件台，应用制程达到65nm；2021年6月，完成28nm制程ArFi光刻机的DWSi系列双工件台的详细设计，已在样机制造集成调试阶段。这项技术的重要性，不言而喻，加上华卓精科全世界只有两家拥有该技术。因此，攻破双工件台技术的壁垒，不仅打破了国外的技术垄断，更为国产光刻机的研发提供了技术保证。
2.光源系统技术国内研究光刻机的光源系统技术，属北京科益虹源最为成熟，也成功掌握了193nm ArF准分子激光器制造，可用于28nmDUV光刻机上。
2. 首台光刻机
成功了。
国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的无掩膜光刻机日前在合肥面世。由中国工程院院士张钟华、叶声华等专家组成的鉴定组在鉴定后认为，芯硕半导体(中国)有限公司的“光刻机”技术，填补了国内光刻机在该项领域的空白，并且在国际同类产品中处于先进水平。
3. 第一代光刻机最新消息
光刻机的价格大约1.5亿欧元。
荷兰阿斯麦尔公司的euv光刻机售价大约1.5亿欧元，不过要说明的是并没有5纳米光刻机，euv光刻机目前处于第一代，也就是13.5纳米极紫外光光源波长本身就是euv光刻机的精度，只不过台积电和三星通过技术使其能够加工出5nm芯片甚至更高制程。荷兰阿斯麦尔euv光刻机非常昂贵，每台售价差不多1.5亿欧元。
4. 中国第一代光刻机
排名前台积电、三星、英特尔。
光刻机拥有量排名主要有三家，第一是台积电，其高端euv光刻机大约70台，duv光刻机大概二百台。第二是三星公司，其高端euv大约20台。第三的英特尔高端euv光刻机不到10台。这三家基本垄断了所有euv光刻机，至于duv光刻机很多代工厂都有，但也是这三家最多。
5. 最新一代光刻机
区别是光源波长不同。
首先要说目前并没有7nm光刻机，现在最高端光刻机是荷兰阿斯麦尔公司的euv13.5nm极紫外光光源光刻机。该类型光刻机可以用于制造22nm制程以下的芯片，包括7nm和14nm。而通常由于成本问题14nm芯片是由duv193nm深紫外光光源光刻机制造的，7nm虽然也能制造但良品率不高一般是由euv光刻机制造。总的来说7nm和14nm制程芯片是由两种不同光源波长的光刻机制造的。
6. 全球第一台光刻机
目前，世界上只有两个国家可以高端制造光刻机。
排名第一的是荷兰，其光刻机制造商ASML，占全球80%以上的市场份额，1984年ASML从飞利浦独立出来，专门致力于研发光刻技术，得益于近乎完美的德国机械工艺以及世界顶级光学厂商德国蔡司镜头，再加上美国提供的光源，ASML迅速发展。
排名第二的是日本，日本的尼康和佳能公司，都有生产光刻机的能力。但相对于荷兰的ASML公司，日本的这两家公司，其制造水平具有一定的差距，但凭借着较低的价格，还是在市场上取得了一定的份额。目前，一台高端光刻机，其售价超过1亿美元