1. 中科院研发成功2nm光刻机
目前ASML主要对外销售的光刻机设备为NXE:3400C，全新的模块化设计，也是让光刻机设备更加便于维护和维修，同时也支持7nm、5nm芯片工艺制程，而根据ASML此前所披露信息来看，目前也正在研发全新一代EUV光刻机设备EXE:5000系列，全新一代EUV光刻机设备的主要合作伙伴依旧还是卡尔蔡司、IMEC比利时微电子中心，而这次全新研发的EXE:5000系列EUV光刻机，分辨率更是直接提升了70%，意味着ASML这次所研发的EUV光刻机设备将会直接瞄准2nm，甚至是极限1nm芯片制程工艺。
2. 国产光刻机最新消息
不是真的。
全世界都没有所谓的量子光刻机，量子芯片目前还处于原始技术累积阶段，也用不上太高端的高制程光刻机，目前的集成电路就可以实现量子芯片的功能。而现在的光刻机是投影浸润式光刻机，和量子芯片的制造理念不太相同。如果量子芯片未来能够实现商业化，才会有适合量子芯片的量子光刻机被制造出来。
3. 光刻机中国能做到几纳米
现在能做十四纳米，如果单纯是芯片的话，中国目前最高可以生产7纳米芯片。目前有能力生产7纳米芯片的是中芯国际，其使用n+1、n+2技术，用duv光刻机对芯片通过多次曝光，使芯片的工艺制程可以提升到7纳米，但是良品率非常低，还要继续改良工艺以提高良品率
4. 光刻机
是一种集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域顶尖技术的产物。
它的工作原理说起来不复杂，就是用"紫外线"对晶圆进行雕刻，在硅片上雕刻出设计好的电路图。
现在最先进的EUV光刻机制程是7nm，这相当于一根头发的万分之一。由于要达到这样的雕刻精度，在雕刻的过程中晶圆需要被快速移动，每次移动10厘米，过程中误差要控制在纳米级别。
5. 光刻机为什么中国做不出来
中国有光刻机当然能造出芯片了。
芯片不光是手机芯片，还有更大的市场需求是中低端芯片。手机芯片占整个芯片行业还不到5%。我们常提到的一般是指高端手机芯片，造这个需要荷兰阿斯麦尔euv光刻机，我们买不到，所以高端芯片我们是造不了。但是国内也有进口的duv光刻机和上海微电子的国产光刻机。中低端光刻机可以通过重复曝光技术制造接近高端的芯片，比如中芯国际的n+1、n+2技术，可以做到7纳米左右，虽然无法与顶级制造相比，但也是比较强的。
6. 中国现在能做几nm芯片
14纳米
中国现在能做14nm芯片。14nm并不是停在实验室里面的研发，也不是投产，而是规模量产。此外90nm光刻机、5nm刻蚀机、12英寸大硅片、国度产CPU、5G芯片等也实现突破。
7. 中科院研发成功2nm光刻机是真的吗
2nm光刻机是芯片制造的核心设备之一。
在加工芯片的过程中，2nm光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。
2nm光刻机的结构组成：
1、测量台、曝光台：是承载硅片的工作台。
2、激光器：就是光源，光刻机核心设备之一。
3、光束矫正器：矫正光束入射方向，让激光束尽量平行。
4、能量控制器：控制最终照射到硅片上的能量，曝光不足或过足都会严重影响成像质量。
5、光束形状设置：设置光束为圆型、环型等不同形状，不同的光束状态有不同的光学特性。
6、遮光器：在不需要曝光的时候，阻止光束照射到硅片。
7、能量探测器：检测光束最终入射能量是否符合曝光要求，并反馈给能量控制器进行调整。
8、掩模版：一块在内部刻着线路设计图的玻璃板，贵的要数十万美元。
9、掩膜台：承载掩模版运动的设备，运动控制精度是nm级的。
10、物镜：物镜用来补偿光学误差，并将线路图等比例缩小。
11、硅片：用硅晶制成的圆片。硅片有多种尺寸，尺寸越大，产率越高。
12、内部封闭框架、减振器：将工作台与外部环境隔离，保持水平，减少外界振动干扰，并维持稳定的温度、压力。