1. 光刻机来了
中芯国际制造28nm所需要的光刻机，也来自阿斯麦公司。但根据业界最新消息，上海微电子已经在2021年底生产28nm深紫外DUV光刻机。
解决了核心设备的问题后，中芯国际在国内配套产业的支持下，在28nm工艺的生产上摆脱美国的限制不是没有可能。
2. 光刻机果然是个幌子
是真的。
我国的真实实力，今天对于一个国家的重要性不言自明，而恰好我们国家的芯片研究相对滞后，西方人以此作为对我国的技术封锁的把柄，每个国家都离不开光刻机来研究芯片，但是美国甚至连和台积电与我国。符号为断绝合作。的确，这一举动确实使我们的精品行业遭受了打击，甚至可以说进入了一段黑暗时期。光刻机制造芯片确实不是中国的量子技术研发出来的，但现在有了。为了解决这一问题，我国科学家们把所有的目光都投向量子技术，这是我们国家的顶级科技。英国于2008年首次推出集成光量子芯片，相对于传统的量子芯片，光量子芯片具有明显的优势。
3. 光刻机造出来了吗
1961年推出第一台光刻机，型号:第一代971型号。
早在1961年，David Mann公司就已经在市场上推出了一台光刻机。这台机器有些瑕疵，但在当时足以用来制造晶体管。使David Mann公司加快发展步伐的不是工程师和学者，而是数十名客户用他们的具体问题促使精密仪器工程师去改进机器。
公司:David Mann（被GCA收购成为其子公司）
价格:30000美金
时间:1961年
型号:第一代971型号，1962年推出了1080型
名称: Photorepeater（重复曝光机）
精度:1微米（1纳米的1千倍）
特点:需要人不断手动操作调节来实现准确定位。
4. 光刻机诞生
1959年，世界上第一架晶体管计算机诞生，提出光刻工艺，仙童半导体研制世界第一个适用单结构硅晶片，1960年代，仙童提出CMOSIC制造工艺，第一台IC计算机IBM360，并且建立了世界上第一台2英寸集成电路生产线，美国GCA公司开发出光学图形发生器和分布重复精缩机。
光刻机是集成电路制造中最精密复杂、难度最高、价格最昂贵的设备，用于在芯片制造过程中的掩膜图形到硅衬底图形之间的转移。集成电路在制作过程中经历材料制备、掩膜、光刻、刻蚀、清洗、掺杂、机械研磨等多个工序，其中以光刻工序最为关键，因为它是整个集成电路产业制造工艺先进程度的重要指标。
5. 光刻机现在
大约1.5亿欧元。
荷兰阿斯麦尔公司的euv光刻机售价大约1.5亿欧元，不过要说明的是并没有5纳米光刻机，euv光刻机目前处于第一代，也就是13.5纳米极紫外光光源波长本身就是euv光刻机的精度，只不过台积电和三星通过技术使其能够加工出5nm芯片甚至更高制程。荷兰阿斯麦尔euv光刻机非常昂贵，每台售价差不多1.5亿欧元。