光刻机我国(光刻机我国在什么水平)

1. 光刻机我国在什么水平

苏大维格目前公司光刻设备在相同或类似领域中处于技术领先地位 。光刻机是半导体产业中最重要的设备，技术先进的还是由荷兰ASML公司生产，我国也有在研发生产光刻机，但技术水平还比较落后，无法满足现代芯片工艺要求。ASML垄断了差不多90%以上的市场。

2. 中国光刻机的差距

国产光刻机进展的程度如下。

作为国内唯一一家，全球四家之一的光刻机制造公司，上海微电子于今年通过了28纳米光刻机的技术检测和认证，目前应该处于量产阶段。该光刻机属于第四代duv光刻机，28纳米算是中端光刻机了。上海微电子将在明年向国内芯片制造企业交付28nm光刻机，这代表着国产光刻机最先进的技术水平，国产光刻机在大幅缩短与海外的技术差距。

3. 中国光刻机在世界上什么水平

答：中国最少要20年左右才能造出2纳米左右的光刻机！现在世界上最先进的光刻机制造厂家是荷兰的阿斯麦公司，他最先进的光刻机是13.5nm光源的EUV光刻机，使用台积电最先进的生产工艺现阶段能达到3nm工艺节点。中国最先进的光刻机是上海微电子90nm光刻机，与世界先进水平差距比较大！

4. 光刻机我国有吗

中国几年前还不能生产光刻机，因为当时中国能从国际市场上购买，所以说中国也没有想着自己制造，毕竟光刻机技术太复杂，就连荷兰的阿斯麦尔生产的光刻机还需要好多国家的专利技术。

这二年因为美国为首的西方制裁中国，不买光刻机给我们，没办法中国只能自力更生，自己生产，不过高端光刻机暂时我们还不能生产，以后会有的，因为我们一直在努力。

5. 我国目前光刻机技术达到什么水平

中国最牛的光刻机生产商是上海微电子装备公司（SMEE），它可以做到的最精密的加工制程是90nm，相当于2004年最新款的 intel 奔腾四处理器的水平。别小瞧这个90nm制程的能力。这已经足够驱动基础的国防和工业。哪怕是面对“所有进口光刻机都瞬间停止工作”这种极端的情况时，中国仍然有芯片可用。