1. 光刻机发明者
1947年12月，大名鼎鼎的美国贝尔实验室的肖克利（“晶体管之父”）、巴丁和布拉顿共同研制出了一种点接触型的锗晶体管！（三人因此获得了1956年的诺贝尔物理学奖）
自此以后，光刻技术才有了发展的契机！
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1958年，德州仪器的杰克·基尔比（集成电路的两位发明人之一）提出并发明了锗基底扩散工艺的集成电路！（2000年，杰克·基尔比因集成电路的发明被授予诺贝尔物理学奖，这是一个“迟到”了42年的诺贝尔物理学奖）
如果没有杰克·基尔比，就很难有如今的半导体产业盛况，电脑、手机等电子产品不知道牛年马月才能进入每一个家庭！
1959年，仙童半导体的罗伯特·诺伊斯（英特尔创始人之一）发明了硅基底平面工艺的集成电路！
由于硅集成电路变成了集成电路市场的主流，罗伯特·诺伊斯与杰克·基尔比，一起被誉为“集成电路之父”！
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1956年，美国贝尔实验室用晶体管代替电子管，制成了世界上第一台全晶体管计算机！
随后，仙童半导体研制出了世界上第一个适用单结构硅晶片。
20世纪60年代，仙童半导体提出了CMOS IC（集成电路）制造工艺；
IBM研制出了第一台IC（集成电路）计算机IBM360；
美国GCA公司（美国地球物理学公司）开发出了光学图形发生器和分布重复精缩机！
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20世纪70年代，GCA开发出第一台分布重复投影曝光机（光刻机）！
20世纪80年代，SVGL（美国硅谷集团光刻系统公司）开发出了第一代步进扫描投影曝光机（光刻机）！
1995年，日本佳能Cano研制出了300mm晶圆曝光机（光刻机）！
随后，阿斯麦ASML推出步进扫描曝光机（光刻机），采用的是193nm的波长！
2012年，为了推进EUV极紫外光刻机等先进设备的研制，阿斯麦ASML推出了“客户联合投资专案”，英特尔、台积电、三星成为了股东，分别持有15%、5%、3%左右的股权！
2. 光刻机的诞生
1.双工件台华卓精科自2012年成立，用了10年的时间，在双工件台技术方面，取得了重大突破。2016年，华卓精科与清华大学共同研制出两套光刻机双工件台掩膜台系统α样机，并成功通过验收。2020年4月，华卓精科向上海微电子发货首台DWS双工件台，应用制程达到65nm；2021年6月，完成28nm制程ArFi光刻机的DWSi系列双工件台的详细设计，已在样机制造集成调试阶段。这项技术的重要性，不言而喻，加上华卓精科全世界只有两家拥有该技术。因此，攻破双工件台技术的壁垒，不仅打破了国外的技术垄断，更为国产光刻机的研发提供了技术保证。
2.光源系统技术国内研究光刻机的光源系统技术，属北京科益虹源最为成熟，也成功掌握了193nm ArF准分子激光器制造，可用于28nmDUV光刻机上。
3. 光刻机发明者是谁
浸入式光刻机之父：林本坚。阿斯麦光刻机靠着光刻机称霸全球很大的功劳是林本坚的技术支持。最新消息：最近中国台湾、清华大学和台积电在内的10家半导体企业合作成立一个半导体研究院。林本坚靠着一己之力推动着全球半导体产业的发展，尤其是在光刻机领域。
林本坚创造了改变芯片行业发展的浸润式光刻机技术
4. 世界第一台光刻机谁发明的
现代光刻技术可以追溯到190年以前，1822年法国人Nicephore niepce在各种材料光照实验以后，开始试图复制一种刻蚀在油纸上的印痕(图案)，他将油纸放在一块玻璃片上，玻片上涂有溶解在植物油中的沥青。经过2、3小时的日晒，透光部分的沥青明显变硬，而不透光部分沥青依然软并可被松香和植物油的混合液洗掉。通过用强酸刻蚀玻璃板，Niepce在1827年制作了一个d’Amboise主教的雕板相的复制品。
但Niepce的发明在100多年后，即第二次世界大战期间才第一应用于制作印刷电路板，即在塑料板上制作铜线路。
直到1959年，世界上第一架晶体管计算机诞生，提出光刻工艺，仙童半导体研制世界第一个适用单结构硅晶片。
5. 光刻机发明者是哪国人
1822年法国人Nicephore niepce发明了光刻机，在早期阶段其功能简单，而且使用的材料也是较为粗糙的，通过材料光照实验之后，Nicephore niepce发现能够复制一种刻着在油纸上的印痕，而在其出现在玻璃片上后，经过一段时间的日晒，其透光部分的沥青就会变得很硬，但在不透光部分则可以用松香和植物油将其洗掉。