1. 光刻机是做什么的
指的是可以做出来的晶体管的最小尺寸，1nm等于1米的十亿分之一
2. 光刻机 是什么
光刻机是半导体技术。光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备， 技术含量、价值含量极高。 光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备。在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的最关键技术，他占芯片制造成本的35%以上。
当芯片完成 IC 设计后，就要委托晶圆代工厂进行芯片制造封装。
芯片制造中，晶圆必不可少，从二氧化硅（SiO2）矿石，比如石英砂中用一系列化学和物理冶炼的方法提纯出硅棒，然后切割成圆形的单晶硅片，这就是晶圆。
从硅棒上切下的晶圆片
晶圆是制造各式电脑芯片的基础。我们可以将芯片制造比拟成用积木盖房子，藉由一层又一层的堆叠，完成自己期望的造型（也就是各式芯片）。然而，如果没有良好的地基，盖出来的房子就会歪来歪去，不合自己所意，为了做出完美的房子，便需要一个平稳的基板。对芯片制造来说，这个基板就是晶圆。
光刻技术是一种精密的微细加工技术。常规光刻技术是采用波长为2000～4500埃的紫外光作为图像信息载体，以光致抗光刻技术蚀剂为中间（图像记录）媒介实现图形的变换、转移和处理，最终把图像信息传递到晶片(主要指硅片)或介质层上的一种工艺。
光刻技术就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。简单来说芯片设计人员设计的线路与功能区“印进”晶圆之中，类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是电路图和其他电子元件。
3. 光刻机用来做什么
90nm光刻机经过两次曝光，可以制成45nm的芯片，三次曝光后可以制成22nm的芯片。
但是曝光次数越多，芯片的良品率就越低，漏电率越高，所以大都用来制造28nm芯片。
再看ASML，EUV光刻机达到了13.5nm，三次曝光后可以制造3nm制程的芯片，领先上海微电子4代。
这样巨大的差距追赶起来难度是可想而知的。
90nm光刻机从研制成功到量产，打磨了整整11年。
4. 光刻机是用来干嘛的
光刻机都是用来做芯片的，10nm光刻机可以做10nm级别的芯片。
5. 光刻机是干嘛的
么是黄光区？简单来讲，黄光区是指TFT工厂或者半导体工厂中的光刻区。包含光刻胶涂布、曝光、显影及刻蚀工序
黄光制程为啥不叫红灯区？绿灯区？
因为此区域的照明采用黄色光源，远远望去一片金黄··· ···
为啥要使用黄光而不是其他颜色的光源照明？
在半导体工业普遍使用的光刻胶，类似于相机的胶片，在遭遇光线照射(特别是紫外线)即有曝光之效果, 因此在显影之前, 都要远离此光源。
因为黄光的波长较长, 不容易使得光刻胶曝光, 因此将黄光作为显影前最理想的照明光源。