1. 主流光刻机
1、大族激光（002008），最新股价39.35元，总市值419.89亿：2021年6月17日公司在互动平台称：公司在研光刻机项目分辨率3-5μm，主要聚焦在分立器件、LED等领域的应用，今年有望实现小批量销售。
2、张江高科（600895），最新股价16.40元，总市值253.99亿：2021年3月，公司在互动平台表示，上海张江浩成创业投资有限公司2021年投资了上海微电子装备有限公司22，345万元，投资比例为10.779%。
3、晶方科技（603005），最新股价55.50元，总市值188.34亿：2021年6月，公司在互动平台表示，荷兰光刻机制造商ASML为公司参与并购的荷兰Anteryon公司的最主要客户之一。Anteryon为全球同时拥有混合镜头、晶圆级微型光学器件工艺技术设计、特性材料及量产能力的技术创新公司，其产品可广泛应用于半导体精密设备、工业自动化、汽车、安防、3D传感器为代表的消费类电子等应用领域。
2. 最新光刻机技术
光刻系统，它是芯片制造核心中的核心，光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程通过光刻来实现，光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。
高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度非常大，现在ASML的最先进的EUV极紫外线光刻机已经能够制造5nm制程的芯片了，单台光刻机的售价已经超过了1亿美元，中国完全自主生产的光刻机目前只能达到90nm制程，差了一大截。
光刻机的研制到底难在哪？光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备。
ASML为能够在整个设备的不同部位同时获得世界上最先进的技术，ASML的光刻机中超过90%的零件都是向外采购的，ASML在技术研发方面汇聚了世界最前沿最顶尖的科技，比如德国的机械工艺、德国顶级的蔡司镜头、美国的光源和计量设备等，可以说ASML的高端光刻机是“集人类智慧大成的产物”。
3. 最先进的光刻机
如今全球光刻机领域最先进的当然是ASML的极紫外光刻机，可以生产5nm甚至更先进制程的芯片。
光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
4. 最顶级光刻机
中国顶尖光刻机就是上海微电子的，没有其他排名。
我们国家光刻机是以上海微电子装备有限公司（SMEE）和中科院以及武汉光电国家研究中心为代表。SMEE的光刻机目前来说它有四大系列，分别是200系列光刻机、300系列光刻机、500系列光刻机、600系列光刻机。这些系列机器仅能够做出90nm工艺的芯片，与国外先进的7nm工艺，甚至更为先进的5nm工艺的光刻机还差很多。上海微电子预计年底能完成首台28纳米光刻机。
5. 国内高端光刻机
我国光刻机最高技术仍旧是上海微电子研究所的90nm工艺，它的SMEE200系列光刻机、300系列光刻机、500系列光刻机、600系列光刻机只能够达到90nm工艺水平。而像江苏无锡影幻半导体公司、合肥芯硕半导体公司都只能够拥有200nm工艺的光刻机量产能力。
6. 低端光刻机
0.35um光刻机不先进，属于低端机型。
光刻机目前最先进的是荷兰阿斯麦尔公司生产的13.5纳米光源的euv光刻机，你所说的0.35um光刻机是350纳米制程的，属于非常低端机型。
光刻机的发展分为五代，从低到高分别是g线436纳米，i线365纳米，KrF248纳米，ArF193纳米，EUV13.5纳米。所以你说的这个350属于第二代光源机型