1. 22nm光刻机
65nm光刻机属中低端水平。
我国目前能够实现量产芯片光刻机的公司是上海微电子设备系统有限公司。目前能够量产的是90nm的光刻机，65nm的光刻机已经在研发了四五年了，目前尚未处于量产阶段。目前最高端的是荷兰阿斯麦尔13.5nm极紫外光光源的euv光刻机。其余为193nm/248nm/365nm/436nm波长为光源的光刻机，分别属于800nm到22nm制程的光刻机。而65纳米就是193nm波长的浸润式duv光刻机中的一种。相比该机型最小制程的22nm，65nm光刻机属于中等偏低的水平。
2. 28nm 光刻机
中国首台国产28nm光刻机有望年底投入使用
上海微电子的28纳米光刻机已经正式通过了技术认证和检测，有望在年底投入使用，这预示着我们在摆脱外国技术依赖上又前进了一大步。这个消息让无数国人感到沸腾。
相信在不久的未来，中芯国际等半导体行业，飞速发展的背后预示的是中国智造的崛起，这一点体现在各行各业，尤其是手机领域今年的表现就十分亮眼。
3. 22nm光刻机多少钱
22nm光刻机与7nm光刻机差三代，中间为14nm光刻机、10～12nm光刻机、7nm光刻机。其中22nm到10nm为DUV光刻机，7nm为EUV光刻机，主要区别是光源不一样，当然主光源是一样的，只是控制光学器件不一样，另一个不一样的是双工作台精度不一样。每升一级，光刻机价格就多出上千万美元，但受制于瓦森纳协定影响，中国即使高价也买不到最先进的EUⅤ光刻机。
4. 22nm光刻机 知乎
能生产7nm的芯片。
22nm光刻机最高能生产7nm的芯片。22nm光刻机也就是duv光刻机，通过技术手段比如多次曝光可以制造出7nm芯片。最先利用duv光刻机制造出7nm芯片的是台积电和三星公司，也是目前全球可以做到7nm量产的两家公司。像英特尔和中芯国际也可以用22nm光刻机制造7nm芯片，不过良品率有待提高。
5. 22nm光刻机能生产什么水平的芯片
原先很多人以为90nm光刻机就只能生产90nm制程的芯片，只有14nm的光刻机才能生产14nm制程的芯片，其实这是个误解，就像照相机底片一样，经过多次曝光可以叠加出更清晰的照片。
90nm光刻机经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光可以达到22nm的芯片。但是曝光次数越多，芯片的良品率就越低，所以一般情况下能够控制在28nm的水平。
6. 22nm光刻机大陆
属于中端水平。光刻机13.5nm以下是euv高端光刻机，14-42nm属于中端水平，42以上属于低端水平。一般中端光刻机28nm的比较常见，你说的22nm这个应该是指那种超分辨率365nm波长的光刻机，这种是等离子光刻技术，跟通常说的投影式光刻机不同，这种是直写式，效率非常低也无法刻复杂电路。