一、中科院22纳米光刻机
中国顶尖光刻机就是上海微电子的，没有其他排名。
我们国家光刻机是以上海微电子装备有限公司（SMEE）和中科院以及武汉光电国家研究中心为代表。SMEE的光刻机目前来说它有四大系列，分别是200系列光刻机、300系列光刻机、500系列光刻机、600系列光刻机。这些系列机器仅能够做出90nm工艺的芯片，与国外先进的7nm工艺，甚至更为先进的5nm工艺的光刻机还差很多。上海微电子预计年底能完成首台28纳米光刻机。
二、中国首台5纳米光刻机
光刻机的价格大约1.5亿欧元。
荷兰阿斯麦尔公司的euv光刻机售价大约1.5亿欧元，不过要说明的是并没有5纳米光刻机，euv光刻机目前处于第一代，也就是13.5纳米极紫外光光源波长本身就是euv光刻机的精度，只不过台积电和三星通过技术使其能够加工出5nm芯片甚至更高制程。荷兰阿斯麦尔euv光刻机非常昂贵，每台售价差不多1.5亿欧元。
三、中国7纳米光刻机
可以制作芯片
光刻机是芯片制造的核心设备之一。在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。
四、中科院22纳米光刻机研究
中国最少要20年左右才能造出2纳米左右的光刻机！现在世界上最先进的光刻机制造厂家是荷兰的阿斯麦公司，他最先进的光刻机是13.5nm光源的EUV光刻机，使用台积电最先进的生产工艺现阶段能达到3nm工艺节点。中国最先进的光刻机是上海微电子90nm光刻机，与世界先进水平差距比较大！
五、中科院研发成功2nm光刻机
2nm光刻机是芯片制造的核心设备之一。
在加工芯片的过程中，2nm光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。
2nm光刻机的结构组成：
1、测量台、曝光台：是承载硅片的工作台。
2、激光器：就是光源，光刻机核心设备之一。
3、光束矫正器：矫正光束入射方向，让激光束尽量平行。
4、能量控制器：控制最终照射到硅片上的能量，曝光不足或过足都会严重影响成像质量。
5、光束形状设置：设置光束为圆型、环型等不同形状，不同的光束状态有不同的光学特性。
6、遮光器：在不需要曝光的时候，阻止光束照射到硅片。
7、能量探测器：检测光束最终入射能量是否符合曝光要求，并反馈给能量控制器进行调整。
8、掩模版：一块在内部刻着线路设计图的玻璃板，贵的要数十万美元。
9、掩膜台：承载掩模版运动的设备，运动控制精度是nm级的。
10、物镜：物镜用来补偿光学误差，并将线路图等比例缩小。
11、硅片：用硅晶制成的圆片。硅片有多种尺寸，尺寸越大，产率越高。
12、内部封闭框架、减振器：将工作台与外部环境隔离，保持水平，减少外界振动干扰，并维持稳定的温度、压力。