一、光刻机国产
可以国产。
led光刻机可以国产。光刻机有三个大类，分别是用于芯片制造光刻机、封装光刻机和led制造光刻机。led光刻机对技术上的要求比较低，第三代365nm光源波长的光刻机完全够用，um级精度就可以制造led。而国产光刻机目前最高精度量产机型可以达到90nm。
二、国产最新光刻机
华为没有光刻机的。
光刻机核心技术专利，也在阿斯麦手中，所以，结合国内光刻机制造发展水平，以及制造技术难点，华为暂时是无法制造出高端光刻机的。
三、刻蚀机和光刻机的区别
灼刻机相当于是清洗，光刻机相当于雕刻。
首先得说没灼刻机这种玩意，那叫蚀刻机。蚀刻机是在化学蚀刻中是使用化学溶液，经由化学反应以达到蚀刻的目的，化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案(或者没有图案)的部分，留下剩余的部分。一台光刻机售价十亿，而蚀刻机两千万，区别非常明显。
四、光刻机国产化率
目前最先进的光刻机应该是22nm的，它的关键部件可以实现国产化了。但中国已经可以实现14nm芯片的量产了，这是中芯国际取得的一个重大成绩。
五、中国能生产光刻机吗
能量产14纳米芯片。2022年中国光刻机能生产14纳米芯片。目前我国芯片制造工厂最高可以批量生产14纳米芯片，而技术上可以生产7纳米芯片，不过目前良品率不高无法量产。
六、光刻机国产最新消息
答：中国最少要20年左右才能造出2纳米左右的光刻机！现在世界上最先进的光刻机制造厂家是荷兰的阿斯麦公司，他最先进的光刻机是13.5nm光源的EUV光刻机，使用台积电最先进的生产工艺现阶段能达到3nm工艺节点。中国最先进的光刻机是上海微电子90nm光刻机，与世界先进水平差距比较大！
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