1. 光刻机是哪个国家的专利
还是要受专利保护的。
禁售光刻机这件事本身和专利保护并不相关，禁售光刻机是美国单方面的行为，也仅限于高端euv光刻机，那么还有duv光刻机有售，所以你要用就得准守专利规则。而且就算你违反专利保护，你生产的产品也无法进行对外贸易，对外贸易可不是芯片一项，违反规则对自己有害无利。
2. 中国研发光刻机不侵犯专利吗
大多数是美国、荷兰、德国、日本等国的。
光刻机是种非常复杂的光电、机械、化学、物理等科学领域技术构成的大型设备，所以光刻机整体并没有专利技术，只要有能力就可以制造，但是涉及到其中的零件或零件组及一些制造应用技术就有专利权了。目前大多数专利在美国、荷兰、德国、日本、韩国等国手里，比如在EUV光刻技术专利最早优先权国家/地区的对比中，日本占比为45.5%，排第一位，美国占比为30.27%，排第二位，第三位为德国，占比13.5%。
3. 光刻机知识产权
肯定不会愿意呀。
个人意见，原因有三:
1、光刻是敏感高技术设备，好多国防领悟，芯片都需要，美国肯定不希望中国能得到这样的设备，就是荷兰愿意，美国也会从中作梗从中阻挠的；
2、荷兰已经基本放弃对疫情的管控了，欧洲已经停止统计新冠感染者人数，政府也没有像我国政府那样管控疫情了，他们对疫情的态度已经放任不管了；
3、荷兰历史上与我国就没有过命的交情，更算不上我国的盟友。
4. 光刻机是哪个国家的专利产品
DUV光刻机的许多专利技术已经慢慢到期，也就是说，在不久之后，其他国家也能够根据相关的专利技术进行DUV光刻机的生产。因此，ASML公司必须要在专利技术到期之前赶紧发挥出这类光刻机的剩余价值。一旦专利技术到期，DUV光刻机会面临着较大的减值风险。
属于发明专利的，专利终止日期是二十年；侵没式DUV光刻机技术专利2022年—2023年到期，EUV专利技术2031年—2039年到期，专利到期后国产光刻机才会官宣。
5. 光刻机发明国家
2004年，阿斯麦和台积电共同研发的浸没式光刻机诞生，由于是在成熟的193nm技术上改进的，设备稳定性和改造成本明显优于尼康同时推出的157nm干式刻蚀机。
阿斯麦的市场份额随之大幅提升，从原来的不到10%到2009年达到了70%，成为绝对的领先者。
尼康在此关键节点上的决策错误使其在短短几年时间内失去了行业领先的地位。
6. 光刻机美国专利
光刻机的专利年限是20年
专利权期限是指专利权的法定期满终止时间。从专利权授权公告之日起，如无因其它事由造成专利权终止的，则该专利权到专利权期限届满之日终止。根据专利法的规定，发明专利权的期限为二十年，实用新型专利权的期限为十年，外观设计专利权的期限为十五年，均自申请日起计算。