1. 最顶级光刻机
主要是光电、化工、机械等高端技术。
euv光刻机核心系统涉及很多的高端技术，比如euv光源是13.5纳米极紫外光光源，是由激光轰击锡滴雾化微粒产生的，目前只有美国一家公司能够提供。再比如德国蔡司光学镜头组，其镜头平整度为全球最顶级的。还有超高精度双工件台技术、光刻胶技术、金属化工气象离子沉积技术等等。
2. 最顶级光刻机国家
中国顶尖光刻机就是上海微电子的，没有其他排名。
我们国家光刻机是以上海微电子装备有限公司（SMEE）和中科院以及武汉光电国家研究中心为代表。SMEE的光刻机目前来说它有四大系列，分别是200系列光刻机、300系列光刻机、500系列光刻机、600系列光刻机。这些系列机器仅能够做出90nm工艺的芯片，与国外先进的7nm工艺，甚至更为先进的5nm工艺的光刻机还差很多。上海微电子预计年底能完成首台28纳米光刻机。
3. 最顶级光刻机是哪一款
不靠谱。
目前最高端的光刻机是euv极紫外光光源光刻机，采用波长为13.5纳米的极紫外光为光源。而X光的波长可以达到0.1纳米，比极紫外光波长要精细很多，但X光却不能制作光刻机，因为X光具有很强的穿透性，穿透性产生的折射会浪费大量的能量，使光刻机效率低下，所以X光无法制作光刻机，X光光刻机不靠谱。
4. 顶级光刻机多少纳米
美国目前并不生产中高端光刻机。
全球能制造光刻机的国家为荷兰的阿斯麦尔，日本的尼康和佳能，中国的上海微电子。其中荷兰阿斯麦尔在45纳米以下高端光刻机市场占有率达80%，并且是唯一能够达到7纳米精度的光刻机提供商。美国虽然不生产光刻机，但生产光刻机中的一个重要部件既13.5纳米极紫外光光源。并且很多为阿斯麦尔提供零部件的公司都是美国资本在控股，也就是说美国有能力控制高端光刻机制造和销售。
5. 顶级光刻机什么水平
90nm的光刻机，属于荷兰ASML15年前的水平，但仍然是国内最顶尖的技术。
在芯片的生产制造过程中，光刻机是重中之重，而提及光刻机，就不得不提荷兰ASML公司。在全球范围内能够生产出高端芯片的光刻机，只有荷兰ASML，因此ASM垄断了全球高端光刻机市场，甚至因产量有限而“有价无市”。