1. 最新光刻机精度
光刻机不能做到零误差。
机械类及光学类设备受物理限制都无法做到零误差，只能减小误差。投影物镜的波像差是影响投影式光刻机套刻精度的一个重要因素.随着光刻特征尺寸的不断减小,波像差对套刻精度的影响越来越突出。所以要研究误差产生的原因，才能做出减小误差的光刻机。
2. 光刻机目前精度
光刻机的精度可解决非圆形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分离不开所引起的版片无法对准的问题。
制造高精度的对准系统需要具有近乎完美的精密机械工艺，能有效避免轴承机械摩擦所带来的工艺误差。
对准系统另外一个技术难题就是对准显微镜，为了增强显微镜的视场，许多高端的光刻机，采用了LED照明。
3. 光刻机精密度
就算是28nm光刻机，也是一套很复杂的设备，精密度也是很高的，开发不成功也是很正常的，只能说我们在精密工业领域还不成熟。
精密制造向来是我们的短板，而光刻机是需要各个零部件都是非常精密的，凭一国的技术很难成功，当前荷兰的光刻机是世界领先的，但也是世界各国最尖端科技的结晶
4. 顶级的光刻机
目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML生产的EUV光刻机，其精度可以达到5nm的级别，它所需的零件超过10万个，以EUV所用的镜头为例，全部由世界顶级镜片制造商蔡司提供，他们生产的各种镜头、反光镜和其他光学部件，没有任何一家公司能模仿。
5. 光刻机有多精密
对于半导体芯片而言，在芯片上面所集成的元件数量越多，其实现的功能也就越多。摩尔定律一直在推动着芯片的高度集成化！
摩尔定律：集成电路上所容纳的元件数量每18个月就会翻一番。
华为Mate40系列智能机搭载着麒麟9000，5nm制程芯片，集成了153亿个集成电路。也就是说CPU芯片的集成度越高，其实现的性能就越优越，其体积也就越小，性价比也就越高。
那么对于5nm中的纳米究竟是谁的尺寸呢？5nm究竟有多大，让我们一起来看看纳米的世界。
一个CPU如果用显微镜来观察，你会发现一座座排列整齐，类似城市布局的奇特现象，那这些鬼斧神工是如何实现的呢？
大家最近都知道制约我们芯片发展的不是设计技术，而是生产设备“光刻机”。这里会涉及到激光，利用激光直径小的原理轻而易举的实现了芯片内部电路的布局。纳米其实就是激光的直径。激光越小，所能画的电路也就越精密，从而实现同样体积装载的晶体管数量也就越多。晶体管数量多了，那么此芯片实现的功能也就越多了，这样可以充分利用晶圆从而制作更多的芯片。
芯片体积变小，成本降低，功耗降低，而1nm=0.0000001cm，可想而知对于5nm我们根本无法辨别。可以这样说，技术精密等级可以用纳米来形容，这也就是华为麒麟9000芯片的独特之处，5nm工艺制成集成了153亿个晶体管。