一、中国最精密的光刻机
中国最牛的光刻机生产商是上海微电子装备公司（SMEE），它可以做到的最精密的加工制程是90nm，相当于2004年最新款的 intel 奔腾四处理器的水平。别小瞧这个90nm制程的能力。这已经足够驱动基础的国防和工业。哪怕是面对“所有进口光刻机都瞬间停止工作”这种极端的情况时，中国仍然有芯片可用。
二、国内最先进的光刻机
中国顶尖光刻机就是上海微电子的，没有其他排名。
我们国家光刻机是以上海微电子装备有限公司（SMEE）和中科院以及武汉光电国家研究中心为代表。SMEE的光刻机目前来说它有四大系列，分别是200系列光刻机、300系列光刻机、500系列光刻机、600系列光刻机。这些系列机器仅能够做出90nm工艺的芯片，与国外先进的7nm工艺，甚至更为先进的5nm工艺的光刻机还差很多。上海微电子预计年底能完成首台28纳米光刻机。
三、最精细的光刻机
乌克兰没有光刻机，最尖端光刻机由荷兰ASML公司制造。光刻机是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML，日本Nikon和日本Canon三大品牌为主。
四、中国最高端光刻机
指的是14nm芯片量产。
光刻机14nm量产实际上指的是使用光刻机可以量产14nm的芯片，并不是14nm制程光刻机设备量产。目前最高端光刻机是13.5nm极紫外光光源波长的光刻机，没有14nm光源波长的光刻机。这种类型一般用于高端芯片，比如5nm、7nm。而14nm芯片量产指的是光源波长193nm的duv光刻机通过技术实现14nm芯片量产。
五、中国最强光刻机
不能
全球首个2nm芯片并不是中国制造的，而是由来自美国的IBM公司制造的，全球首颗2nm芯片位于美国纽约州奥尔巴尼半导体研究机构设计和生产。
据了解，IBM 2nm芯片的晶体管密度为333.33，比DNA单链还要更小，可以在150mm的芯片上容纳500亿个2nm晶体管，2nm芯片比7nm芯片在性能和功耗方面都有着大幅度的提升，其性能提升45%，功耗降低75%，可以延长智能手机的电池寿命和功耗排放，手机续航时间可以增长至之前的四倍。2nm制程工艺可以应用在消费电子设备、边缘计算、太空探索、5G/6G等领域。
值得注意的是，台积电不久前也推出了自家的2nm芯片，采用GAAFET全环绕栅极晶体管技术，预计2025年实现量产。除了在2025年量产2nm芯片外，台积电还将在2024年引进ASML阿斯麦下一代High-NA EUV最强光刻机，用于制造比3nm更先进的工艺。
六、国内精度最高的光刻机
可以国产。
led光刻机可以国产。光刻机有三个大类，分别是用于芯片制造光刻机、封装光刻机和led制造光刻机。led光刻机对技术上的要求比较低，第三代365nm光源波长的光刻机完全够用，um级精度就可以制造led。而国产光刻机目前最高精度量产机型可以达到90nm。