1. 光刻机
排名前台积电、三星、英特尔。
光刻机拥有量排名主要有三家，第一是台积电，其高端euv光刻机大约70台，duv光刻机大概二百台。第二是三星公司，其高端euv大约20台。第三的英特尔高端euv光刻机不到10台。这三家基本垄断了所有euv光刻机，至于duv光刻机很多代工厂都有，但也是这三家最多。
2. 光刻机中国能做到几纳米
光刻机极限是1纳米。
现有芯片制造的原材料是硅，也就是我们常说的硅芯片。一块非常小的芯片实际上整合了数以亿计的晶体管，每个晶体可看作是一个可控的电子开关，晶体管由源极、漏极和位于他们之间的栅极所组成，电流从源极流入漏极，栅极则起到控制电流通断的作用，从而产生0 1数字信号，在目前的芯片中，连接晶体管源极和漏极的是硅元素。
然而随着晶体管尺寸的不断缩小（目前已到5nm），源极和栅极间的沟道也在不断缩短，当沟道缩短到一定程度的时候，量子隧穿效应就会变得极为容易，换言之，就算是没有加电压，源极和漏极都可以认为是互通的，那么晶体管就失去了本身开关的作用，因此也没法实现逻辑电路。
3. 光刻机哪个国家能造
主要参与的国家有17个。
荷兰阿斯麦尔光刻机是由四十几个国家参与研发和投资的，总共800多家零部件供应商，其中主要零部件供应商大约有17个，其中美国cymer公司为euv光刻机光源供应商，德国蔡司为光学镜头组供应商，台湾提供精密线材，日本的掩膜板、涂布显影设备等。
4. 光刻机多少钱一台
十年。
一台光刻机的寿命也不仅仅在于一两代芯片，如果用193nm深紫外光刻机也是可以做到10nm乃至7nm芯片的生产的，只是工艺难度实现起来相对复杂，成本较高，比如采用自对准四次成型技术，就可以得到更加致密的结构，不过因为芯片层级的工艺变得复杂，需要更多掩模版和材料，所以用193nm光刻机生产7nm芯片非常不划算，所以到了这个程度必须上EUV光刻机。
5. 光刻机的工作原理
没有一纳米光刻机这种东西，所以更谈不上原理。
没有一纳米光刻机这种东西，也没一纳米光刻机的原理。目前全球最高端光刻机为荷兰阿斯麦尔公司的euv13.5纳米极紫外光光源光刻机，该光刻机可以用于制造22纳米以下制程的芯片。目前可量产芯片最高制程为4纳米，但并不是说光刻机是4纳米的，而是使用13.5纳米euv光刻机通过多次曝光冯技术使芯片制程达到更高制程。所以并没有一纳米光刻机，目前没有这样的技术。从原理上X射线可以做到，但X射线的穿透性使之无法用于制造光刻机。